用於奈米壓印之無溶劑型光聚合高分子材料

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Lien-Chung Hsu (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

本發明為用於奈米壓印之無溶劑型光聚合高分子材料,無溶劑型光聚合高分子材料利用甲基丙烯酸甲酯(Methyl methacrylate,MMA)、n-丙烯酸丁酯(nomal-butylacrylate,n-BA)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate,PMMA)及二苯甲酮(BENZOPHENONE)置於一玻璃反應瓶中混合攪拌後共聚形成,將已製備的無溶劑型光聚合高分子材料用於壓印圖案轉移,因無溶劑型光聚合高分子材料之流動性良好,於壓印製程中產生的殘餘層較少,故花費在蝕刻殘餘層之時間較少,並可防止過度蝕刻而破壞轉移圖案。而本發明所製備之無溶劑型光聚合高分子材料可運用於硬式基材(如:矽晶片)及軟式基材(如:PET基材)。
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專利號I314151
出版狀態Published - 1800

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