表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。
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專利號I348072
出版狀態Published - 1800

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