摘要
一種三維形狀微奈米結構之製造方法係應用於一基板，第二蝕刻材料層位於基板與第一蝕刻材料層之間。製造方法包含一轉印步驟，藉由一模仁將一轉印材料層轉印至基板之第一蝕刻材料層；一第一蝕刻步驟，係以基板上之轉印材料層作為遮罩，對第一蝕刻材料層及第二蝕刻材料層進行蝕刻；以及一第二蝕刻步驟，對第一蝕刻材料層及第二蝕刻材料層進行蝕刻
| 貢獻的翻譯標題 | 三維形狀微奈米結構及其製造方法 |
|---|---|
| 原文 | English |
| 專利號 | I413177 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |
3-D MICRO/NANO STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
Yung-Chun Lee (Inventor)
研究成果: Patent