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概要
研究單位
研究成果
專案
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設備
活動
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A combinatorial study of metal gate/HfO
2
MOSCAPS
M. L. Green,
K. S. Chang
, I. Takeuchi, T. Chikyow
材料科學及工程學系
尖端材料國際碩士學位學程
研究成果
:
Conference contribution
總覽
指紋
指紋
深入研究「A combinatorial study of metal gate/HfO
2
MOSCAPS」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Metals
100%
Wavelength dispersive spectroscopy
89%
Electrodes
79%
Gate dielectrics
73%
Sputtering
66%
Surveying
61%
Leakage currents
55%
Current density
50%
Thin films
49%
Chemical analysis
33%
Electric potential
26%