摘要
| 原文 | English |
|---|---|
| 專利號 | I427722 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |
引用此文
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TY - PAT
T1 - ADVANCED PROCESS CONTROL SYSTEM AND METHOD UTILIZING VIRTUAL METROLOGY WITH RELIANCE INDEX AND COMPUTER PROGRAM PRODUCT THEREOF
AU - Cheng, Fan-Tien
PY - 1800
Y1 - 1800
N2 - 一種先進製程控制(Advanced Process Control；APC)系統與方法，以及當執行時進行此APC方法之電腦程式產品，用以上將虛擬量測(Virtual Metrology；VM)併入APC中。當一工件之一虛擬量測值被採用來替換其實際量測值時，本發明使用信心指標值(Reliance Index；RI)和整體相似度指標值(Global Similarity Index；GSI)來調整一批次至批次(Run-to-Run；R2R)控制器之至少一控制器增益(Gain)。RI係用以判斷此虛擬量測值的可信賴度，而GSI係用以評估產生此虛擬量測值之組製程資料與虛擬量測預測模型建模所用到的所有歷史製程資料間的相似程度。
AB - 一種先進製程控制(Advanced Process Control；APC)系統與方法，以及當執行時進行此APC方法之電腦程式產品，用以上將虛擬量測(Virtual Metrology；VM)併入APC中。當一工件之一虛擬量測值被採用來替換其實際量測值時，本發明使用信心指標值(Reliance Index；RI)和整體相似度指標值(Global Similarity Index；GSI)來調整一批次至批次(Run-to-Run；R2R)控制器之至少一控制器增益(Gain)。RI係用以判斷此虛擬量測值的可信賴度，而GSI係用以評估產生此虛擬量測值之組製程資料與虛擬量測預測模型建模所用到的所有歷史製程資料間的相似程度。
M3 - Patent
M1 - I427722
ER -