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概要
研究單位
研究成果
專案
學生論文
設備
獎項
活動
Channel width dependence of hot-carrier induced degradation in shallow trench isolated pMOSFETs
Kazunari Ishimaru
,
Jone F. Chen
, Chenming Hu
微電子工程研究所
研究成果
:
Conference contribution
總覽
指紋
指紋
深入研究「Channel width dependence of hot-carrier induced degradation in shallow trench isolated pMOSFETs」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Shallow Trench
100%
Channel Width Dependence
100%
Narrow Channel
50%
Trapping Efficiency
50%
Earth and Planetary Sciences
Trench
100%
Oxide Film
50%
Engineering
Narrow Channel
50%