跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立成功大學 首頁
English
中文
首頁
概要
研究單位
研究成果
專案
學生論文
設備
獎項
活動
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
Characterization of gan schottky barrier photodiodes with a low-temperature GaN Cap layer
M. L. Lee,
J. K. Sheu
, Y. K. Su,
S. J. Chang
,
W. C. Lai
, G. C. Chi
光電科學與工程學系
微電子工程研究所
研究成果
:
Paper
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Characterization of gan schottky barrier photodiodes with a low-temperature GaN Cap layer」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Low Temperature
100%
GaN Cap Layer
100%
UV Photodiode
100%
Schottky Barrier Photodiode
100%
Ni-Au
100%
GaN Layers
50%
Reverse Bias
50%
Responsivity
50%
Nitrides
50%
Dark Current
50%
Photocurrent
50%
Leakage Current
50%
Contrast Ratio
50%
Metal Organic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE)
50%
Schottky Barrier
50%
Incident Light
50%
Light Wavelength
50%
Operation Speed
50%
RC Time Constant
50%
Engineering
Low-Temperature
100%
Photodiode
100%
Schottky Barrier
100%
Cap Layer
100%
Nitride
33%
Speed Operation
33%
Reverse Bias
33%
Responsivity
33%
Photocurrent
33%
Contrast Ratio
33%
Constant Time
33%
Resistive
33%
Light Incident
33%
Reduce Leakage
33%
Material Science
Schottky Barrier
100%
Nitride Compound
50%
Vapor Phase Epitaxy
50%