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Chemical oxide interfacial layer for the high-k-last/gate-last integration scheme

  • Ying Tsung Chen
  • , Ssu I. Fu
  • , Wen Tai Chiang
  • , Chien Ting Lin
  • , Shih Hung Tsai
  • , Shao Wei Wang
  • , Shoou Jinn Chang

研究成果: Article同行評審

9   連結會在新分頁中打開 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Chemical oxide interfacial layer for the high-k-last/gate-last integration scheme」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式

Engineering

Keyphrases

Material Science