退火在鈦/砷化鎵薄膜奈米壓痕行為及化合物形成上之效應分析

Woei Shyan Lee, Chung Chia Lo

研究成果: Article同行評審

指紋

深入研究「退火在鈦/砷化鎵薄膜奈米壓痕行為及化合物形成上之效應分析」主題。共同形成了獨特的指紋。

Engineering & Materials Science