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Effects of current density, pulse plating, and additives on the initial stage of gold deposition
K. Lin
, R. Weil
材料科學及工程學系
尖端材料國際碩士學位學程
研究成果
:
Article
›
同行評審
14
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Effects of current density, pulse plating, and additives on the initial stage of gold deposition」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Arsenic
44%
Copper
24%
Current density
86%
Gold
96%
Melamine
42%
Plating
100%
Silver
32%
Substrates
63%
Chemical Compounds
Additive
60%
Current Density
65%
Melamine
48%
Nylon
48%