Effects of fin width on high-κ/metal gate bulk FinFET devices

Chien Hung Chen, Ying Chien Fang, Sheng Yuan Chu

研究成果: Article同行評審

4 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋 深入研究「Effects of fin width on high-κ/metal gate bulk FinFET devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

Engineering & Materials Science