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概要
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活動
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High performance sputtered/anodized tantalum oxide capacitors
S. G. Byeon,
Y. Tzeng
微電子工程研究所
奈米積體電路工程碩士學位學程
研究成果
:
Conference article
›
同行評審
15
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「High performance sputtered/anodized tantalum oxide capacitors」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Tantalum oxides
100%
Oxide films
45%
Capacitors
43%
Capacitor storage
27%
Anodic oxidation
25%
Sputtering
23%
Leakage currents
19%
Electric properties
19%
Physics & Astronomy
tantalum oxides
76%
capacitors
47%
oxide films
32%
breakdown
28%
performance
24%
anodizing
24%
leakage
15%
dissipation
14%
sputtering
14%
electrical properties
13%
Chemical Compounds
Capacitor
56%
Liquid Film
26%
Anodizing
21%
Leakage Current
14%
Dissipation
11%
Sputtering
11%
Electrical Property
9%