High-quality strain-relaxed SiGe alloy grown on implanted silicon-on-insulator substrate

F. Y. Huang, M. A. Chu, M. O. Tanner, K. L. Wang, G. D. U'Ren, M. S. Goorsky

研究成果: Article › 同行評審

54 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「High-quality strain-relaxed SiGe alloy grown on implanted silicon-on-insulator substrate」主題。共同形成了獨特的指紋。

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