Imprint lithography utilizing silated acidic polymers

貢獻的翻譯標題: 以矽化酸性高分子材料之壓印圖案轉移製程

Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Lien-Chung Hsu (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

本發明係為一以矽化酸性高分子材料之壓印圖案轉移製程,利用包含酸性單體及矽單體之數種單體以共聚合方式合成出高分子阻劑,將高分子阻劑塗佈於基材上進行熱壓印圖形轉移製程時,由於高分子阻劑為酸性矽化聚合物,可利用環保型鹼性水溶液之去阻劑去除,而不需使用昂貴之乾式蝕刻或有機溶劑移除,可加速製程並降低基台耗損及物料成本。
貢獻的翻譯標題以矽化酸性高分子材料之壓印圖案轉移製程
原文English
專利號I296355
出版狀態Published - 1800

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