摘要
一種壓印製程方法。在此方法中，首先，提供一硬質基板，其中硬質基板係至少包含第一表面以及相對於第一表面之第二表面。接著，提供一緩衝層，其中緩衝層係設置於第二表面上。然後，形成一高分子材料層於第一表面上。之後，執行一壓印步驟，以形成一壓印圖案於高分子材料層上。接著，形成一金屬層於第一表面上。之後，移除高分子材料層。
| 貢獻的翻譯標題 | 壓印製程方法 |
|---|---|
| 原文 | English |
| 專利號 | I329791 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |
Imprinting process method
Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Sheng-Yuan Chu (Inventor)
研究成果: Patent