摘要
一種壓印製程方法。在此方法中,首先,提供一硬質基板,其中硬質基板係至少包含第一表面以及相對於第一表面之第二表面。接著,提供一緩衝層,其中緩衝層係設置於第二表面上。然後,形成一高分子材料層於第一表面上。之後,執行一壓印步驟,以形成一壓印圖案於高分子材料層上。接著,形成一金屬層於第一表面上。之後,移除高分子材料層。
貢獻的翻譯標題 | 壓印製程方法 |
---|---|
原文 | English |
專利號 | I329791 |
出版狀態 | Published - 1800 |
Franklin Chau-Nan Hong (Inventor), Sheng-Yuan Chu (Inventor)
研究成果: Patent
貢獻的翻譯標題 | 壓印製程方法 |
---|---|
原文 | English |
專利號 | I329791 |
出版狀態 | Published - 1800 |