Investigations of GaN metal-oxide-semiconductor capacitors with sputtered HfO2 gate dielectrics
- C. F. Shih
- , K. T. Hung
- , C. Y. Hsiao
- , S. C. Shu
- , W. M. Li
研究成果: Article › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）