MANUFACTURING METHOD OF NON-PHASESHIFTED PHOTOMASK

貢獻的翻譯標題: 非相位移光罩之製造方法

Yung-Chun Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種光罩之製造方法包含:提供一光罩基板,光罩基板上設有一圖案化之遮罩層;以遮罩層作為遮罩而蝕刻光罩基板,以使光罩基板具有複數凸狀部突出於光罩基板之一表面,各凸狀部具有複數側面與一頂面,該等側面連接頂面與該表面;形成一遮光層於被蝕刻之光罩基板與遮罩層上;以及移除部分遮光層,以使各頂面之至少一部分不被遮光層覆蓋。
貢獻的翻譯標題非相位移光罩之製造方法
原文English
專利號I522734
出版狀態Published - 1800

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