MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK

貢獻的翻譯標題: 光罩之製造方法

Yung-Chun Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種光罩之製造方法包含:提供一基板,基板之一側具有複數凸狀物,各凸狀物之一頂部為漸縮結構;形成一遮光層於基板之該側且覆蓋該等凸狀物;形成一蝕刻保護層於遮光層上;蝕刻位於該等凸狀物之頂部之該蝕刻保護層的部分;以及以剩餘之蝕刻保護層作為遮罩對遮光層進行蝕刻。
貢獻的翻譯標題光罩之製造方法
原文English
專利號I477893
出版狀態Published - 1800

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