摘要
本發明係一種高深寬比圖案轉移製作方法，利用結合壓印以及光罩曝光技術形成高深寬比之光阻圖案之轉移。以在微奈米光阻圖形轉移製程中節省顯影時間，顯影液使用量，同時避免轉移之光阻圖形暴露於顯影液中過久所衍生之圖案與基材脫離及分解的問題，以形成高深寬比之圖案;可達到節省微奈米光阻圖形轉移製程中之顯影時間，節省微奈米光阻圖形轉移製程中之顯影液使用量，避免轉移之光阻圖形暴露於顯影液中過久所衍生之圖案與基材脫離及分解，並使轉移後之圖案達到高深寬比(High aspect ratio)之功效。
| 貢獻的翻譯標題 | 高深寬比圖案轉移製作方法 |
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| 原文 | English |
| 專利號 | I220267 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |