Method for locating landmarks on cephalogram

貢獻的翻譯標題: 測顱片界標定位方法

Jia-Kuang Liu (Inventor), Kuo-Sheng Cheng (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

本發明係揭露一種測顱片界標定位方法。在此測顱片界標定位方法中,首先提供測顱片之描軌圖樣板,其中每一樣板描軌圖具有描軌圖界標點座標。接著,對每一描軌圖進行第一特徵擷取步驟,以擷取每一描軌圖之描軌圖特徵。然後,進行第二特徵擷取步驟,以擷取目標測顱片之測顱片特徵。接著,進行特徵比較步驟,以根據測顱片特徵和每一描軌圖之描軌圖特徵,來從描軌圖中選取最小誤差描軌圖。然後,進行界標點調整步驟,以根據測顱片特徵和最小誤差描軌圖之描軌圖特徵,來調整最小誤差描軌圖之描軌圖界標點座標,以獲得測顱片之測顱片界標點座標。
原文English
專利號I368495
出版狀態Published - 1800

引用此文

Liu, J-K., & Cheng, K-S. (1800). Method for locating landmarks on cephalogram. (專利號 I368495).
Liu, Jia-Kuang (Inventor) ; Cheng, Kuo-Sheng (Inventor). / Method for locating landmarks on cephalogram. 專利號: I368495.
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Method for locating landmarks on cephalogram. / Liu, Jia-Kuang (Inventor); Cheng, Kuo-Sheng (Inventor).

專利號: I368495.

研究成果: Patent

TY - PAT

T1 - Method for locating landmarks on cephalogram

AU - Liu, Jia-Kuang

AU - Cheng, Kuo-Sheng

PY - 1800

Y1 - 1800

N2 - 本發明係揭露一種測顱片界標定位方法。在此測顱片界標定位方法中,首先提供測顱片之描軌圖樣板,其中每一樣板描軌圖具有描軌圖界標點座標。接著,對每一描軌圖進行第一特徵擷取步驟,以擷取每一描軌圖之描軌圖特徵。然後,進行第二特徵擷取步驟,以擷取目標測顱片之測顱片特徵。接著,進行特徵比較步驟,以根據測顱片特徵和每一描軌圖之描軌圖特徵,來從描軌圖中選取最小誤差描軌圖。然後,進行界標點調整步驟,以根據測顱片特徵和最小誤差描軌圖之描軌圖特徵,來調整最小誤差描軌圖之描軌圖界標點座標,以獲得測顱片之測顱片界標點座標。

AB - 本發明係揭露一種測顱片界標定位方法。在此測顱片界標定位方法中,首先提供測顱片之描軌圖樣板,其中每一樣板描軌圖具有描軌圖界標點座標。接著,對每一描軌圖進行第一特徵擷取步驟,以擷取每一描軌圖之描軌圖特徵。然後,進行第二特徵擷取步驟,以擷取目標測顱片之測顱片特徵。接著,進行特徵比較步驟,以根據測顱片特徵和每一描軌圖之描軌圖特徵,來從描軌圖中選取最小誤差描軌圖。然後,進行界標點調整步驟,以根據測顱片特徵和最小誤差描軌圖之描軌圖特徵,來調整最小誤差描軌圖之描軌圖界標點座標,以獲得測顱片之測顱片界標點座標。

M3 - Patent

M1 - I368495

ER -