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Molecular environment of Ni after its use for removal of CMP nanoparticle
Y. L. Wei, K. W. Chen, Y. S. Peng,
H. Paul Wang
環境工程學系
研究成果
:
Article
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Molecular environment of Ni after its use for removal of CMP nanoparticle」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
X ray absorption
100%
Chemical mechanical polishing
74%
Precipitates
59%
Nanoparticles
56%
X ray absorption spectroscopy
56%
Molecules
56%
Nickel sulfates
51%
Solvation
45%
Phase separation
36%
Water
31%
Wastewater
30%
Nickel
26%
Liquids
19%
Physics & Astronomy
polishing
60%
nanoparticles
38%
precipitates
33%
nickel
30%
waste water
29%
x rays
25%
water
21%
coordination number
21%
solvation
20%
sulfates
20%
molecules
20%
solid phases
17%
absorption spectroscopy
17%
liquid phases
16%
fine structure
15%