摘要
一種奈米壓印製程,至少包括:提供基板,其一表面覆設有壓印材料層;提供模仁,其一表面設有數個凸狀特徵,且此表面覆設有抗沾黏膜層;形成移轉材料層於凸狀特徵之頂面;將模仁之表面與壓印材料層相對壓合,以使移轉材料層嵌設在壓印材料層之第一部分;移除模仁並同時分開模仁與移轉材料層,而使移轉材料層轉印至壓印材料層之第一部分中,並暴露出壓印材料層之第二部分;利用移轉材料層作為遮罩
| 貢獻的翻譯標題 | 奈米壓印製程 |
|---|---|
| 原文 | English |
| 專利號 | I335490 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |
| 貢獻的翻譯標題 | 奈米壓印製程 |
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| 原文 | English |
| 專利號 | I335490 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |