NANO-IMPRINTING PROCESS

貢獻的翻譯標題: 奈米壓印製程

Yung-Chun Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種奈米壓印製程,至少包括:提供基板,其一表面覆設有壓印材料層;提供模仁,其一表面設有數個凸狀特徵,且此表面覆設有抗沾黏膜層;形成移轉材料層於凸狀特徵之頂面;將模仁之表面與壓印材料層相對壓合,以使移轉材料層嵌設在壓印材料層之第一部分;移除模仁並同時分開模仁與移轉材料層,而使移轉材料層轉印至壓印材料層之第一部分中,並暴露出壓印材料層之第二部分;利用移轉材料層作為遮罩
貢獻的翻譯標題奈米壓印製程
原文English
專利號I335490
出版狀態Published - 1800

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