OPTICAL THERMAL NANO-IMPRINTING PROCESS

貢獻的翻譯標題: 光學式奈米熱壓印製程

Yung-Chun Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種光學式奈米熱壓印製程,至少包括:先提供模仁,具有相對之第一表面與第二表面,且模仁之第一表面設有壓印圖案;再形成加熱光源吸收層於模仁之第一表面上;並提供基板,具有相對之第一表面與第二表面,其中基板之第一表面上設有高分子材料層;再將模仁放置在基板之第一表面上,並使模仁之第一表面與基板之第一表面彼此相對;從基板之第二表面對該基板施加預壓力
貢獻的翻譯標題光學式奈米熱壓印製程
原文English
專利號I342986
出版狀態Published - 1800

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