PHOTOMASK AND METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK

貢獻的翻譯標題: 光罩及光罩的製造方法

Yung-Chun Lee (Inventor)

研究成果: Patent

摘要

一種光罩的製造方法,其步驟包括:提供可撓性基板。於可撓性基板上形成複數個微結構。於可撓性基板上塗佈遮光材料,使基板形成遮光層。固化遮光層,且遮光層為單一層體。
貢獻的翻譯標題光罩及光罩的製造方法
原文English
專利號I592741
出版狀態Published - 2016 一月 1

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