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概要
研究單位
研究成果
專案
學生論文
設備
獎項
活動
Postdeposition thermal annealing influence on the activation of the cosputtered AlN-ZnO films
Shiau Lu Yao
, Jhen Dong Hong
, Chung Yen Ho
,
Ching Ting Lee
, Day Shan Liu
光電科學與工程學系
研究成果
:
Conference contribution
總覽
指紋
指紋
深入研究「Postdeposition thermal annealing influence on the activation of the cosputtered AlN-ZnO films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Material Science
Oxide Film
100%
Annealing
100%
Aluminum Nitride
100%
Zinc Oxide
100%
Photoluminescence
66%
Film
33%
Carrier Concentration
33%
Activation Energy
33%
Luminescence
33%
Hole Concentration
33%
Keyphrases
Defect Transitions
33%
Acceptor Level
33%
Shallow Donor Level
33%