摘要
一種微奈米壓印技術之基板的前處理製程，至少包括將基板置入反應室中、以及對基板進行電漿或離子處理。在進行基板之電漿處理時，先於反應室中通入反應氣體，再利用此反應氣體形成電漿，以使電漿與基板產生物理反應以及化學反應，來去除吸附於基板表面上之微粒和污染物，並活化基板表面。在進行基板離子處理時，於反應室中置入離子源，再利用離子源產生的離子或中性原子撞擊基板，與基板產生物理反應以及化學反應，來去除吸附於基板表面上之微粒和污染物，並活化基板表面。
| 貢獻的翻譯標題 | 微奈米壓印技術之基板的前處理製程 |
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| 原文 | English |
| 專利號 | I240328 |
| 出版狀態 | Published - 1800 |