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The use of mahalanobis distance in solving the sputtering process thin-film thickness uniformity quality problem
Taho Yang
, Yuan Ting Cheng, Yu An Shen
製造資訊與系統研究所
研究成果
:
Article
›
同行評審
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「The use of mahalanobis distance in solving the sputtering process thin-film thickness uniformity quality problem」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Mahalanobis Distance
100%
Film Thickness Uniformity
100%
Class Imbalance Problem
40%
Nonconforming Items
40%
Robust Classification
20%
Sputter Coating
20%
Material Science
Thin Films
100%
Film Thickness
100%
Mathematics
Mahalanobis Distance
100%
Discriminant Analysis
60%
Empirical Illustration
20%
Engineering
Mahalanobis Distance
100%
Nonconforming Item
40%
Chemical Engineering
Film
100%