跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
English
中文
首頁
概要
研究單位
研究成果
專案
學生論文
設備
活動
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
Ultra low-temperature microwave annealing for ultra-shallow junctions and P-MOS devices
Ming Han Tsai, Chi Ting Wu, Shao Yu Hu,
Wen Hsi Lee
電機工程學系
奈米積體電路工程碩士學位學程
研究成果
:
Article
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Ultra low-temperature microwave annealing for ultra-shallow junctions and P-MOS devices」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Chemical Compounds
MOS devices
Annealing
Microwaves
Boron
Silicon
Temperature
Crystals
Secondary ion mass spectrometry
Ion implantation
Silicon wafers
Leakage currents
Ions
Engineering & Materials Science
MOS devices
Annealing
Microwaves
Temperature
Boron
Crystals
Silicon
Secondary ion mass spectrometry
Ion implantation
Silicon wafers
Leakage currents
Ions
Physics & Astronomy
cryogenic temperature
microwaves
annealing
boron
silicon
very large scale integration
secondary ion mass spectrometry
crystals
ion implantation
leakage
wafers
requirements
profiles
ions