Wet oxidation of GeSi at 700°C

W. S. Liu, E. W. Lee, M. A. Nicolet, V. Arbet-Engels, K. L. Wang, N. M. Abuhadba, C. R. Aita

研究成果: Article同行評審

49 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Wet oxidation of GeSi at 700°C」主題。共同形成了獨特的指紋。

Physics & Astronomy