金屬轉印技術與乾式蝕刻製程應用於次微米結構與抗反射光學元件之製作

  • 張 丁仁

學生論文: Master's Thesis

摘要

  本研究利用接觸式金屬轉印技術 (Contact transfer and metal mask embedded lithography) 與乾式蝕刻,在透光性材料表面製作次微米等級的微結構,以改善其光學特性;另外,在理論與模擬方面,根據有限元素法 (Finite element method) 分析此一次微米結構的光學特性,已達到最佳設計的目的。主要應用對象為具抗反射?能的光學元件。   在實驗部分,根據接觸式金屬轉印技術完成蝕刻遮罩,再控制乾式蝕刻製程的氣體流量、射頻?率、製程壓力、與蝕刻時間,成?地在光學玻璃上定義出線寬200 nm、週期400 nm、高度135 nm六角最密排列之柱狀結構,並利用分光光譜儀量測出此單面抗反射結構的光學玻璃之穿透率,其穿透率相較於平板光學玻璃提升約2%。進一步更利用軟性壓印模仁可撓曲的優點,在具有曲率的光學凸透鏡上,蝕刻出次微米等級的柱狀結構;在不影響其光學聚焦與成像的能力下,增加其光學穿透特性與抗眩光的效果。本技術未來的應用甚廣,例如抗反射玻璃、提升顯示器顯示品質、增加太陽能電池光吸收率、解決眩光問題、或是提升光學系統的穿透率 等等。
獎項日期2014 九月 1
原文???core.languages.zh_ZH???
監督員Yung-Chun Lee (Supervisor)

引用此

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