互補式電阻切換記憶體(Complementary Resistive Switch CRS)由於其在低電壓時始終保持高阻態的特性,因此目前被認為是交錯式被動陣列(Crossbar Passive Array)中電路產生潛行電流的最佳解決方案。然而其可重複操作性卻是目前最大的挑戰(500次)。 在本實驗第一部分,我們改變了CRS元件的中間層金屬,分別為Ti、Cu和Ag。實驗發現,以Ag為中間層可以有效增加元件的可重複操作性達到500次,並且具有最低的操作電壓。 在本實驗第二部分,我們試圖利用不同晶向氮化鋁的雙極性電阻切換記憶體驗證製成CRS的先決條件|Vreset|>|Vset|/2,並透過實驗證實非晶態氮化鋁BRS元件不符合先決條件,因此無法表現出完整CRS元件特性。最後探討了氮化鋁電阻式記憶體的導電機制,發現在低阻態時主要為歐姆傳導,而在高阻態時則是空間電荷限制電流為主要機制。
Investigations of the Effects and Mechanisms of Metal Interconnection Layer and Orientation of AlN-based Complementary Resistive Switches
培豪, 洪. (Author). 2019
學生論文: Doctoral Thesis