Measurement and Calibration for Point Array Oblique Scanning Ultraviolet Exposure

摘要

本研究之主題是以光點陣列斜掃描為基礎之無光罩式紫外 (UV)光曝光技術，針對其曝光圖形因光學成像鏡頭之畸變與像差所造成之誤差與缺陷，建立一光學檢測及校正流程，藉由高解析度影像感測器及高精度之運動平台量測光點陣列的真實座標，再修正曝光圖形拆解演算法中正規光點格點位置與調整斜掃描角度，進行曝光圖形的補正，並以實驗方式驗證本校正流程之可行性。 本論文之無光罩式UV微影系統採用波長 405 nm 之紫外光光源，紫外光先經過數位微鏡面裝置 (Digital Micro-mirror Device DMD) 的開關調控與反射，所反射之紫外光經過第一鏡組後成像於微透鏡陣列的表面，微透鏡陣列再聚光於一個作為空間濾波器的微孔洞陣列，以消除其雜散光，最後再將孔洞陣列的紫外光經由第二鏡組成像於試片的光阻層，進行光點陣列斜掃描的UV曝光。經由實驗發覺，此系統之光學成像鏡頭於14x10 6 mm2 成像範圍內的畸變像差約為0 3 %，週期性缺陷最大約為 30 μm，藉由本研究提出的光點陣列檢測及校正流程，可將週期性缺陷抑制至2 μm 內，並且成?實現最小線寬 10 μm 之任意圖形的無光罩式黃光微影製程。

獎項日期	2020
原文	English
監督員	Yung-Chun Lee (Supervisor)