Using Taguchi Method to Analyze the Optimized Photoresistance Reduction of Semiconductor Front-End Process

論文翻譯標題: 使用田口方法分析半導體前段製程之最佳光阻減量
  • 郭 哲豪

學生論文: Doctoral Thesis

摘要

本文以田口方法分析半導體微影製程中光阻減量後的膜厚均勻度與變異性,並將所得數據與現行的生產程式進行比對,以確認減量後的光阻厚度可行性。本文的研究內容分為兩部分,首先針對影響膜厚均勻度與晶圓表面的三種控制變因進行探討。後續設定三種控制變因的數據,找出最佳化數據,並藉由統計製程管制圖(SPC Chart)驗證現行生產程式與減量程式的差異性與可替代性,同時本文也將探討當參數設定超出機台設定時的行為。根據田口實驗設計結果顯示,當減少光刻膠塗層(RRC)用量增加時能有效減少光阻使用量,但須搭配旋轉速度,當RRC噴吐時旋轉速度為0時,晶圓表面會形成鋸齒狀圖案,最後搭配每週兩次的機台測試膜厚,並將數值記錄在統計製程管制圖上能有效判別機台是否異常並及時解決監控機台膜厚的穩定度,以確認減量程式用來生產晶圓無虞。
獎項日期2020
原文English
監督員Wen-Fung Pan (Supervisor)

引用此

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